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正文 第131章 十倍精度光刻第1页/共1页

纪弘也很头疼,产能怎么挤?巧妇也难为无米之炊!

最关键的自然不是零部件这种东西,而是光刻机。

不说别的,在限制一次又一次的加码之后,国内现在能够进口的最先进的光刻机是1980di,曝光精度是38nm的那款。

主要用于28nm、14nm制程,多重曝光的情况下,也能制造7nm芯片。

《年近三十,科技立业》第131章 十倍精度光刻

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